Bu öğeden alıntı yapmak, öğeye bağlanmak için bu tanımlayıcıyı kullanınız: http://hdl.handle.net/11452/29815
Başlık: CdS üzerine MgF2 temelli yansıma önleyici ince film kaplamaların üretilmesi ve karakterizasyonu
Diğer Başlıklar: Production and characterization of MgF2 based anti-reflective thin film coatings on CdS
Yazarlar: Akay, Sertan Kemal
Öztatlı, Aybars
Bursa Uludağ Üniversitesi/Fen Bilimleri Enstitüsü/Fizik Anabilim Dalı.
0000-0002-5760-8880
Anahtar kelimeler: CdS
MgF2
İnce film
Termal buharlaşma
Yansıma önleyici kaplama
Tavlama
Thin film
Thermal evaporation
Anti-reflective coating
Annealing
Yayın Tarihi: 2-Eyl-2022
Yayıncı: Bursa Uludağ Üniversitesi
Atıf: Öztatlı, A. (2022). CdS üzerine MgF2 temelli yansıma önleyici ince film kaplamaların üretilmesi ve karakterizasyonu. Yayınlanmamış yüksek lisans tezi. Bursa Uludağ Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü.
Özet: Optoelektronik uygulamalarda yansıma kayıplarını önlemek için ince film kaplama çalışmalarından yararlanıldığı bilinmektedir. Bu tez çalışmasında, farklı kırılma indislerine sahip malzemeler kullanılarak yansıma önleyici ince film yapıların geliştirilmesi hedeflenmiştir. Bu amaçla, Fiziksel Buhar Biriktirme (PVD) yöntemi kullanılarak, cam alttaşlar üzerine II-IV grubu yarıiletken bileşiği olan Kadmiyum Sülfür (CdS) ve bir toprak alkali metal florürü olan Magnezyum Florür (MgF2) ince filmlerinin büyütülmesi gerçekleştirilmiştir. İnce film yapıların yansıma önleyici özelliklerinin belirlenebilmesi için, cam alttaştan daha yüksek kırılma indisine sahip CdS üzerine, cam alttaştan daha düşük kırılma indisine sahip MgF2 kaplama malzemesi olarak tercih edilmiştir. Farklı kalınlıklarda üretilen çift katmanlı yansıma önleyici ince film kaplamaların yapısal, optik ve morfolojik özellikleri, X-Işınları Kırınımı (XRD), UV-vis spektrofotometre, Enerji Dağılımlı X-Işını Spektroskopisi (EDS) ve Alan Etkili Taramalı Elektron Mikroskobu (FESEM) yardımıyla incelenmiştir. Analizler sonucunda, CdS ince filmler üzerine ikinci katman olarak büyütülen MgF2 ince film yapının optik yansıma kayıplarını görünür bölgede %30'a kadar azalttığı ve buna bağlı olarak geçirgenliği arttırdığı gözlenmiştir. Ayrıca yapılar ayrı ayrı tavlanmış ve tavlamanın optik kayıpları azaltmada etkisinin olup olmadığı araştırılmıştır.
It is known that thin film coating studies are used to prevent reflection losses in optoelectronic applications. In this thesis, it is aimed to develope anti-reflective thin film structures by using materials with different refractive indices. For this purpose, Cadmium Sulfide (CdS) thin film, an II-IV group semiconductor compound, and Magnesium Fluoride (MgF2) thin film, an alkaline earth metal fluoride, are grown on glass substrates using the Physical Vapor Deposition (PVD) method. In order to determine the anti-reflective properties of the thin film structures, MgF2, which has a lower refractive index than the glass substrate, is preferred as the coating material on CdS thin film, which has a higher refractive index than the glass substrate. The structural, optical and morphological properties of double-layer anti-reflective thin film coatings produced in different thicknesses are investigated with X-Ray Diffraction (XRD), UV-vis spectrophotometer, Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy (EDS) and Field Emission Scanning Electron Microscope (FESEM), respectively. As a result of the analyzes, it is observed that MgF2 structure grown as a second layer on CdS thin films is reduced optical reflection losses up to 30% in the visible region and accordingly increased the transmittance. Moreover, the structures are annealed separately and it is investigated whether or not annealing has an effect on reducing optical losses.
URI: http://hdl.handle.net/11452/29815
Koleksiyonlarda Görünür:Fen Bilimleri Yüksek Lisans Tezleri / Master Degree

Bu öğenin dosyaları:
Dosya Açıklama BoyutBiçim 
Aybars_Öztatlı.pdf1.82 MBAdobe PDFKüçük resim
Göster/Aç


Bu öğe kapsamında lisanslı Creative Commons License Creative Commons