Bu öğeden alıntı yapmak, öğeye bağlanmak için bu tanımlayıcıyı kullanınız:
http://hdl.handle.net/11452/26094
Başlık: | Electrical, structural and morphological properties of Ni/n-Si contacts |
Yazarlar: | Ertürk, Kadir Uludağ Üniversitesi/Fen-Edebiyat Fakültesi/Fizik Bölümü. Özer, Mehmet Akay, Sertan Kemal Peksöz, Ahmet Kaynak, Gökay R-7260-2016 AAG-9772-2021 9742545600 24801954600 23100976500 12042075600 |
Anahtar kelimeler: | Electro-deposition Morphological properties Scanning electron microscopy Schottky barrier height Hydrogen Materials science Optics Boric acid Deposition Energy dispersive X ray analysis Scanning electron microscopy Schottky barrier diodes Semiconductor metal boundaries Silicon X ray diffraction analysis Boric acid solutions Electrical measurement Local distributions Morphological properties Nickel sulphamate Schottky barrier heights Si (100) substrate Structural and morphological properties Nickel metallography |
Yayın Tarihi: | May-2009 |
Yayıncı: | Natl Inst Optoelectronics |
Atıf: | Özer, M. vd. (2009). "Electrical, structural and morphological properties of Ni/n-Si contacts". Optoelectronics and Advanced Materials, Rapid Communications, 3(5), 506-508. |
Özet: | This paper presents structural, morphological and electrical properties of Ni/n-Si contacts formed by electro-deposition technique. Ni film is deposited on n-type Si (100) substrate using 2 mol/L Nickel Sulphamate, 0.5 mol/L Boric Acid solutions. The morphological properties are investigated by using energy dispersive X-Ray analysis and scanning electron microscopy imaging to perform local distribution of Ni. Electrical measurements have been done at room temperature to investigate the Schottky barrier height. |
URI: | http://hdl.handle.net/11452/26094 |
ISSN: | 1842-6573 |
Koleksiyonlarda Görünür: | Scopus Web of Science |
Bu öğenin dosyaları:
Bu öğeyle ilişkili dosya bulunmamaktadır.
DSpace'deki bütün öğeler, aksi belirtilmedikçe, tüm hakları saklı tutulmak şartıyla telif hakkı ile korunmaktadır.